제품소개

YAS는 세계 최초 대면적 OLED 양산설비 제작 업체로, 독보적인 성능의 OLED System을 보유하고 있습니다.

YAS Evaporation Source(LNS & PNS & CNS)

LNS & PNS & CNS

구분 방식 기판사이즈 용도 용량(cc)
2 3 4 5 6 7 8 10.5
PNS Rotational 연구용/양산용 10, 40, 150, 400, 800
Scanning
CNS/SCNS Static 연구용/양산용 40, 150, 400
Rotational
CLNS Scanning 연구용/양산용 1,000
LNS Scanning 연구용/양산용 1,000
3,000
100,000

터치 및 드래그로 내용 확인이 가능합니다.

LNS

LNS / C-LNS

  • 높은 물질 사용 효율
  • 특수한 구조의 선형 노즐을 적용하여 최상의 박막 균일도로 성막 가능함.
  • 도핑 균질도를 향상시킬 수 있고, 마스크 쉐도우 현상이 적음.
  • 높은 TS로 Substrate 열전달에 유리하면서 동일한 높은 물질 사용효율 보유
  • 증발원의 열 분포를 적절하게 유지하여 분출 Clogging 방지
  • 기판 혹은 증발원을 이동하면서 성막하는 장비에 적용 가능
  • 유기물 및 무기물 증발원 제공

PNS

LT Source 저용량, 작은 기판용 Source로 양산용보다는 Lab에 주로 이용된다.
HT Source Inorganic / Metal meteria에 주로 사용된다.
Al Source 알루미늄에 특화된 소스로, 양산에 사용시 YAS만의 Feeding System과 결합되어 사용된다.
  • 높은 물질 사용 효율은 좋지 않으나, 안정적인 Uniformity 확보가 가능하다.

CNS

LNS / C-LNS

  • 기판의 회전 없이도 균일한 두께의 유기 박막을 제작
  • 기존의 Point Source를 이용한 회전 증발원에 비해 물질의 사용 효율이 3~4배 향상
  • 박막 균일도 2% 미만
  • 도핑 균질도를 향상 시킬 수 있고, 마스크 쉐도우 현상을 개선 회전 증착 시 물질 사용률 극대화
  • 4세대 (730 × 920mm)까지 적용 가능
  • 유기물 및 무기물 증발원 제공
  • YAS만의 Nozzle Handling Tech.를 이용하여, Flux 컨트롤을 통한 U/F & Utilization 가능.